摘要：7月1日，日本經濟產業省宣布自7月4日起限制對韓國出口3種半導體及OLED材料，包括“氟聚酰亞胺”、“光刻膠”和“高純度氟化氫”，這三種材料都是制造智能電視、手機等半導體及顯示器的核心材料。在全球貿易摩擦趨緊的背景下，此事讓我們更應思考國產半導體材料的技術及市場情況。

光刻膠是一種由聚合劑、感光劑、溶劑和添加劑等光敏感物質組成的混合溶液，是微電子領域電路制作環節的關鍵材料。在光化學反應中，在紫外線、電子束等光照或輻射下，照射區域的光刻膠溶解度發生變化而溶解，從而使掩膜板上的微電路圖形轉移到加工基片上，這種電路制作工藝稱為光刻。

在光刻工藝中，光刻膠被均勻涂布在硅片、玻璃或金屬等不同的襯底上，經曝光、顯影和蝕刻等工序將掩模板上的圖形轉移到薄膜上，形成與掩模板完全對應的幾何圖形，因此多被應用在PCB、LCD和半導體制造等行業中。光刻膠按使用行業不同可分為PCB光刻膠、面板光刻膠、半導體光刻膠。

表1 光刻膠主要類型及應用

(資料來源：晶瑞股份招股說明書)

全球光刻膠市場呈寡頭壟斷局面

從2010至2015年，全球光刻膠市場規模從55.5億美元增長至73.6億美元，復合增長率達到5.81%，預計至2020年全球市場規模可達到100億美元。光刻膠市場集成度非常高，基本被日本、美國幾家大型企業所壟斷，如日本合成橡膠(JSR)、東京應化(TOK)、信越化學、美國羅門哈斯(被陶氏化學收購)、富士電子等合計占據87%的市場份額。

圖2 2017年全球光刻膠原材料市場份額 圖3 2017年全球光刻膠市場結構

(資料來源：中國產業信息網)

光刻膠材料的高技術壁壘、資金壁壘、客戶壁壘使得龍頭企業強者恒強，一旦研發的某種光刻膠產品實現量產和下游導入，將成為公司的高毛利率產品，并為公司帶來長期巨額利潤，而其他廠商很難再獲得相應的市場份額。

國內光刻膠實現低端突破，高端產品仍需時日

國內光刻膠市場起步較晚，但下游PCB、LCD、半導體產業的迅速發展使得國內的光刻膠的需求很大。據產業信息網數據，2017年我國本土光刻膠產量達到4.41萬噸，同比增長17.6%，但同年光刻膠需求量已達7.99萬噸，年復合增長率14.69%，市場規模達到58.7億元，年復合增長率11.59%。本土產量僅占需求量的55%,未來幾年仍會持續供不應求，光刻膠行業有大量的發展空間。

產業結構方面，我國的光刻膠生產結構相對單一，主要以PCB光刻膠、TN/STN-LCD光刻膠等中低端產品為主，而TFT正性膠、彩色黑色光刻膠、半導體光刻膠等高端產品仍依賴進口。在全球PCB光刻膠市場，我國占據全球約70%的市場份額，產品種類主要集中在濕膜光刻膠、阻焊油墨光刻膠方面，干膜光刻膠產量較小。

圖4 國內光刻膠市場結構

（資料來源：中國產業信息網）

在面板光刻膠市場，我國TFT正性光刻膠90%以上來自進口，其中德國默克公司在中國的市場占有率超過67%，國內從事TFT正性光刻膠研究生產的廠家主要有北京北旭、北京科華(南大光電子公司)、蘇州瑞紅(晶瑞股份子公司)等。彩色光刻膠行業技術壁壘高，國內彩色光刻膠還處于起步階段，北京鼎材、浙江永太和阜陽欣奕華在從事相關研究。黑色光刻膠的行業集中度更高，生產廠家集中于日本與韓國，國內只有江蘇博硯在進行小批量生產、阜陽欣奕華在從事相關研究。

半導體光刻膠是光刻膠中最高端部分，然國內市場份額還不足2%，僅有蘇州瑞紅、北京科華、南大光電、容大感光、上海新陽五家企業涉足相關生產和研發。其中g/i線及KrF光刻膠能滿足一部分產能，6英寸硅片用的g/i線光刻膠的自給率約為20%、8英寸硅片的KrF光刻膠的自給率不足5%、適用于12寸硅片的ArF光刻膠完全依靠進口。

表1 光刻膠種類及廠商一覽表

(資料來源：公開資料整理)

結語

半導體光刻膠是非常重要的芯片制造材料，如若市場長期被外商壟斷則未來必將受制于人。近年來，在國家政策的大力推動下，國內低端光刻膠產業已經能實現部分國產替代，而對于高端的半導體光刻膠，國外擁有絕對的技術壁壘、資金壁壘優勢，想要突破絕非易事。好在國內企業已經開始相關的生產研發工作，因此需對國產光刻膠充滿信心。