INTRODUCTION
光刻機又名掩模對準曝光機，是半導體產業鏈中最精密的設備，是制造芯片的核心裝備。光刻機行業屬于明顯的寡頭壟斷格局，荷蘭ASML光刻機獨占鰲頭。國產光刻機研發雖然近年來突破重重壁壘，在核心技術上取得了突破性進展，但短期仍難達到國際領先水平。
2023年12月25日，佳能半導體機器業務部長巖本和德表示，佳能采用納米壓印技術的光刻機有望生產2nm芯片，且成本可以降至傳統光刻設備的一半。在巖本和德發聲的4天以前，荷蘭半導體設備制造商ASML宣布，已向英特爾交付了全球首臺High NA(高數值孔徑)EUV(極紫外)光刻系統，支持2nm制程及以下工藝的芯片制造...[文章閱讀]
導入了首臺EUV光刻機并不意味著臺積電在美國建廠能“萬事大吉”。有消息稱，首臺EUV光刻機的導入也使得臺積電美國亞利桑那州廠加劇人才缺口。隨著建廠進入到安裝先進精密設備的關鍵階段，預計將有2000名相關技術人員的人才缺口。此前臺積電在財報電話會議上透露，受人力開支、許可證、合規性和通貨膨脹的影響，赴美設廠成本或至少是中國臺灣地區的四倍...[文章閱讀]
除了積極跟蹤EUV光刻機的開發進程，芯片廠商也在尋找能夠替代EUV光刻機的技術。被寄予厚望的不僅僅是電子束光刻技術。鎧俠力推NIL壓印工藝，聲稱有望在2025年實現5nm工藝;臺積電采用DUV光刻技術同樣實現了7nm工藝，并聲稱DUV光刻技術可以也可以實現5nm工藝。...[文章閱讀]
在所有光刻機中EUV無疑最受關注。財報顯示，ASML第二季度極紫外線光刻機(EUV)共售出12臺，環比增長9臺，收入19.9億歐元，環比增長232%。ASML的EUV訂單量積壓已超過100臺，同時預計明年的EUV產能將超過60臺。...[文章閱讀]
2021年，全球存儲器市場先揚后抑，前三個季度內存價格一路攀升，第四季度卻轉為供過于求，價格開始下跌。2022年，隨著三大原廠對EUV的應用將進一步增加，DRAM的成本構成逐步改變，NAND閃存也將進入172層時代，存儲器的市場形態或將展現出一些新的特征。...[文章閱讀]
光刻機產業鏈上游關鍵部件包括工作臺、掩模臺、投影物鏡、激光器、和傳感器等器件，中游產品包括接觸式/接近式、掃描投影式、浸沒式、極紫外式光刻機，下游主要面向芯片制造、MEMS燈、封裝、LED照明、平板顯示等領域。目前，光刻機產業鏈高端領域行業壁壘較高，國內躋身行業前列還需要很長一段時間。...[文章閱讀]
光刻機在芯片制造相關設備中處于核心地位，隨著半導體行業對芯片制程要求的不斷提高，促進了光刻機產品從低端向高端的升級，光刻機市場規模逐步提升。目前IC前道光刻機高端市場被ASML壟斷，國產光刻機的技術仍然落后于國外，國內企業在完成90nm制程的基礎上，正在向28nm制程光刻機加速邁進。...[文章閱讀]
在《瓦森納協定》限制下，我國已初步形成自主研發90nm光刻機產業鏈，雖與荷蘭ASML的7nm全球高端產業鏈相差較遠，但在局部領域已達到世界領先水平，并逐漸融入ASML高端產業鏈。本文主要從光刻機的產業鏈、市場格局等方面進行介紹。我國長期受《瓦森納協定》限制，無法使用國際高端光刻機所需要的先進部件，導致我國光刻機與世界先進水平差距較大。隨著國家02專項中的光刻機關鍵核心技術的突破，我國自主研發能力不斷加強，在局部領域已經達到世界先進水平，目前我國上海微電子已實現自主研制90nm制程光刻機，預計2021年將實現28nm光刻機。...[文章閱讀]
光刻機在芯片制造領域具有舉足輕重的地位，光刻機決定了晶體管的尺寸，晶體管的尺寸對于芯片的性能具有重大意義，半導體行業對于芯片性能的不斷追求推動了光刻機產品的不斷升級與創新。目前光刻機市場呈現寡頭壟斷的局面，高端技術掌握在巨頭企業手中。國產光刻機的技術仍然落后于國外，在技術研發以及人才建設上還有很長的路要走。...[文章閱讀]
近年來，我國的科學技術在不斷迎來突破。在發展的同時，在一些技術的發展方面仍然處于劣勢，這些技術都需要進行更多的研發投入，進而促進行業的良性發展。指甲蓋大小的芯片，密布千萬電線，紋絲不亂，需要極端精準的照相機——光刻機。光刻機精度，決定了芯片的上限。高精度光刻機產自ASML、尼康和佳能三家;頂級光刻機由ASML壟斷。...[文章閱讀]
在科技時代，擁有更多的技術則意味著更多的市場話語權，在光刻機市場也同樣，現在基本處于市場壟斷地位的ASML也是憑借的技術優勢領先。Canon早已在很多年前便放棄了在高端光刻機上的競爭，目前產品主要集中在面板等領域。目前他們還在銷售的集成電路光刻設備在指標標上只相當于ASML的低端產品PAS5500系列。Nikon作為世界上僅有的三家能夠制造商用光刻機的公司之一，似乎在這個領域不被許多普通人知道，許多人只知道Nikon的相機做的好，卻不知道Nikon光刻機同樣享譽全球。...[文章閱讀]
國內的光刻機企業和國外的企業相比差距巨大，但是在這樣的發展背景下，國內的光刻機技術也在實現不斷的突破。光刻機的關鍵核心技術，第一道難關是光刻機的曝光光學系統，由數十塊鍋底大的鏡片串聯組成，其光學零件精度控制在幾個納米以內，ASML公司的鏡頭組由老牌光學儀器公司德國蔡司獨家生產。...[文章閱讀]
光刻機在現在的芯片市場中處于非常重要的位置，其技術發展水平將直接影響芯片的發展。那么現在光刻機的工作原理是什么，它是怎樣在芯片制造中發揮作用的呢?光刻機根據應用工序不同，可以分為用于生產芯片的光刻機，以及用于封裝的光刻機，其中封裝光刻機對于光刻精度和控制精度的要求都比制造用光刻機低很多，價值量也相對較低。...[文章閱讀]
光刻機的發展限制了現在的芯片發展，現在國內的光刻機發展和國外的差距非常大，那么光刻機的技術包括哪些方面呢?光刻機就是放大的單反，光刻機就是將光罩上的設計好集成電路圖形通過光線的曝光印到光感材料上，形成圖形。最核心的就是鏡頭，這個不是一般的鏡頭，可以達到高2米直徑1米，甚至更大。...[文章閱讀]
荷蘭的ASML，是現在光刻機，在現光刻機市場處于壟斷地位。那么這個企業能夠位于現企業第一的原因有哪些呢?ASML最開始是飛利浦光刻設備研發小組。1971年開始研發，在1973年就研發了新型光刻設備，最后因為虧損太厲害，成本太高，分拆出來了，但所有的團隊都保留了下來。在推翻現在ASML的市場壟斷地位的道路上，各國企業也在進行相關的研究，但是基于時間和技術支持有限，現在其他公司和ASML的差距依舊很大。...[文章閱讀]
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